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  • 單靶磁控濺射儀

    此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜(金膜),儀器操作簡(jiǎn)單方便,設(shè)備配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空,在 20Pa 真空保護(hù)。同時(shí),配有進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)裝置,以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

    更新時(shí)間:2024-03-27
    產(chǎn)品型號(hào):
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  • 磁控濺射儀

    KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

    更新時(shí)間:2024-03-27
    產(chǎn)品型號(hào):
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  • KT-Z1650小型濺射儀

    KT-Z1650PVD小型濺射儀是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

    更新時(shí)間:2024-03-27
    產(chǎn)品型號(hào):KT-Z1650
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